池州电镀厂-德鸿表面处理-镀铬电镀厂

那么真空电镀作为一种新型电镀与传统电镀有什么不同呢？

1.不同的原理

顾名思义，真空电镀是在真空下进行的。各种薄膜通过蒸馏或溅射沉积在待镀物体的表面上。应用物理变化，因此该过程是的。然而，传统的电镀利用电化学反应原理和化学变化，从而污染环境。

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2.不同的特征

真空镀膜一般很薄，有三个---的优点：速度快，附着力好，颜色多样。然而，真空电镀具有相对较高的加工成本。传统电镀比真空电镀厚，一般也能保护不锈钢管。成本相对较低，但颜色比较单调，不符合要求。

3.不同的应用范围

真空镀膜因其膜材和基体材料的广泛选择，被广泛应用于家电、化妆品包装甚至航空制造业和不锈钢行业。然而，传统电镀广泛应用于工业，镀铬电镀厂，如汽车工业。

在电镀工艺试验和镀液故障分析中广泛采用“正交试验法”，因为采用“正交试验法”可以用较少的试验次数，池州电镀厂，获得较优的试验结果。我们认为，在工艺试验和镀液故障分析中如果能把“正交试验法”和赫尔槽试验结合起来，将可采用更少的试验次数而获得试验结果。

赫尔槽是一种小型快速电镀试验槽，在赫尔槽中，阳极和阴极是相互倾斜安放的，其阳极两端和阴极两端距离不等，因此赫尔槽阴极试样的电流密度范围极其广阔，只要通过一次试验就可以根据不同电流密度上镀层状况来了解镀液的性能。

在工艺试验和镀液故障分析时，把“正交试验法”和赫尔槽试验结合，可以在多因素试验中减少电流密度这一因素，减少很多的试验。我们在进行快速电铸镍试验时，若采用“正交试验法”在普通小型电镀槽中进行试验，需要试验27次，（若不用“正交试验法”需试验 4455 次 ），而采用“正交试验法” 在赫尔槽中进行试验，只用12 次试验就得到---的试验结果，---节省了试验时间和试验费用。在镀液故障分析中，如果能在实践中建立每个镀槽故障赫尔槽试验样板的原始记录，通过比较就能减少更多的试验次数。

在电镀生产中，为了监控电镀变化，必须对各种镀槽的溶液尤其是光亮镀镍和新工艺镀液定期进行赫尔槽试验，制作每种镀液的赫尔槽试验故障样板，建立每个镀槽故障样板的原始记录，每次赫尔槽试验的阴极板应与原始记录故障样板进行比较，若槽液逐渐接近某一样板，说明故障将要发生，就可以及时处理，消灭故障的---。