




电镀就是说运用电解基本原理在一些金属表面上镀上一薄层其他金属或合金的流程,电泳是水溶液中带电粒子(离子)在电场移动的现像。
电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,电泳是溶液中带电粒子(离子)在电场中移动的现象。
电镀:
电镀时,镀层金属做阳极,被氧化成阳离子进入电镀液;待镀的金属制品做阴极,镀层金属的阳离子在金属表面被还原形成镀层。为排除其它阳离子的干扰,且使镀层均匀、牢固,需用含镀层金属阳离子的溶液做电镀液,以保持镀层金属阳离子的浓度不变。电镀的目的是在基材上镀上金属镀层,改变基材表面性质或尺寸.电镀能增强金属的抗腐蚀性(镀层金属多采用耐腐蚀的金属)、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、润滑性、耐热性、和表面美观。
电镀时,一般都是用含有镀层金属离子的电解质配成电镀液;把待镀金属制品浸入电镀液中与直流电源的负极相连,作为阴极;用镀层金属作为阳极,与直流电源正极相连。通入低压直流电,阳极金属溶解在溶液中成为阳离子,移向阴极,这些离子在阴极获得电子被还原成金属,覆盖在需要电镀的金属制品上。
电镀---熟悉了共性的东西,镀银加工厂,能一通百通,灵活掌握;对特殊要求则应多问几个为什么,才能给予充分重视。电镀工艺条件主要包括下述几方面内容。
阴阳极面积比(ak:aa,当阴极所用电流密度确定后,对定型产品或尺寸镀铬时,镀银厂家,依据工件受镀总面积来确定电流强度i(非定型定量入槽时,依据经验来确定)。由于阴阳极处于串联状态,阳极的总电流也为i。一般不规定阳极电流密度ja。可溶性阳极的总表面积是变化的:随着阳极消耗,其总表面积不断减小,ja 不断变大。另外, 平板阳极靠镀槽一面究竟有多大面积在有效导电,也很难确定。因此实际阳极电流密度是很难确定的。ja 过大或过小都不好:ja 过小,阳极有化学自溶作用时,镀液中主盐金属离子增加快;ja 过大,则阳极极化过大,阳极或呈渣状溶解形成阳极泥渣而浪费,或因析氧等原因而钝化。因阳极并非所有表面都在有效导电,即使jk=ja,ak:aa 也会大于l。 故一般要求ak:aa 在1.5~2.0之间。
阳极材料,对于阳极,不仅有面积要求,而且有时还有特殊要求。有特殊要求时,苏州镀银,在工艺条件中---以注明。
搅拌对镀液实施,搅拌,可提高对流传质速度,及时补充阴极界面液层中的消耗物。及时补充主盐金属离子后,浓差极化减小,允许阴极电流密度上升,一可提高镀速,二可减小镀层烧焦的可能性;及时补充光亮剂、---是整平剂的电解还原消耗,镀银,才能获得高光亮、高整平的镀层(所以光亮酸铜与亮镍都必须搅拌)。搅拌还可及时排除工件表面产生的氢气泡,减少气体、麻点。
搅拌的主要方式有阴极运动(水平或垂直的阴极移动,阴极旋转,阴极振动等)及空气搅拌两类。超声波的空化作用具有---的搅拌作用,但超声波的工业化应用很少。在高速电镀中,为了采用很大阴极电流密度,要求十分---的搅拌,如采用喷射法、高速液流法(要求阴极界面液层的流动达紊流状态而不是层流状态)、“珩磨法”、“硬粒子摩擦法”等。
电镀工艺填过孔的高精密pcb在过孔时,经过封装成芯板后能承受住热冲击循环,在一些情况下,例如,在基板厚度为60μm、基底铜为5μm的板上,也可以通过电镀工艺填充直径为100μm的通孔来取代之前的盲微孔。整个工艺与激光打孔后,降低了生产成本,提高了生产效率。
在水平电镀生产线和垂直电镀生产线中,采用不溶性磷铜阳极电镀工艺可以---镀层达到预定要求,---是对于以便携式电子产品或集成电路板产品为主的高密度互连板(hdi)而言。该工艺的一个---优点是能连续地向镀液中供给稳定的cu2+离子,使镀液中cu2+离子的浓度稳定在一定的水平上,有利于长时间填充盲孔。
采用卧式脉冲电流电镀生产线,调整镀液参数和镀液条件,是一种新型的超填充高密度互连板通孔工艺。该工艺能成功地填充15μm涂层上凹陷小于10μm的盲孔。新开发的工艺还可以生产50μm宽、线间距的板材。镀层厚度非常均匀。据调查,这种半加成法在薄铜板上镀铜,是制pcb电路板的常用方法。全板化学镀铜的首要任务是---铜沉淀溶液的组成,调整沉铜参数,在沉铜前的图形转移,在沉铜后填充盲孔,以及电镀用缓蚀剂的闪光腐蚀参数和性能。
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